卡洛斯莫近期推出Struers 金相研磨与抛光设备

我司卡洛斯莫近期推出Xmatic 全自动端到端研磨与抛光系统，专为需要最佳可再现性、高处理能力及过程标准化的实验室设计。该系统可最大限度减少操作人员干预，消除人为失误与流程波动，提高工作场所安全性。

我司新推出的TargetSystem 自动目标制备系统专为微电子组件的可见与隐藏目标制备设计，适用于微型穿孔及BGA等精密目标的实时对齐与测量，制备精度可达±5微米。该设备采用智能制备系统（IPS），可根据样品属性与研磨表面自动调整去除时间与速率，将测量与制备时间缩减至30分钟以内。TargetSystem不受操作人员技能影响，且可与标准SiC砂纸或耗材配合使用，无需成本昂贵的专用研磨薄片。