卡洛斯莫司特尔半自动研磨和抛光设备
AbraPol-30 高容量半自动研磨抛光设备，适用于直径为350毫米研磨盘及200毫米试样夹具座的大型试样或大批量样品制备。设备配备金刚石悬浮液与润滑剂双重加液系统以优化分布效果，搭载去除率传感器与透明防护罩，用户界面采用彩色显示与大图标设计，配合多用途旋钮实现快速导航。其框架设计具备优异的稳定性与抗振性能，不锈钢碗自带终身腐蚀保修。

卡洛斯莫司特尔半自动研磨和抛光设备

卡洛斯莫司特尔半自动研磨和抛光设备

Struers 提供完整的金相研磨与抛光设备产品线，涵盖全自动、半自动、手动及便携式系统，适用于各种材料及尺寸工件的试样制备需求。

Xmatic 全自动端到端研磨与抛光解决方案，专为需要最佳可再现性、高处理能力及过程标准化的实验室设计。

该系统可最大限度减少操作人员干预，消除人为失误与流程波动，提高工作场所安全性。

TargetSystem 自动目标制备系统专为微电子组件的可见与隐藏目标制备设计，适用于微型穿孔及BGA等精密目标的实时对齐与测量，

制备精度可达±5微米。该设备采用智能制备系统（IPS），可根据样品属性与研磨表面自动调整去除时间与速率，

将测量与制备时间缩减至30分钟以内。TargetSystem不受操作人员技能影响，且可与标准SiC砂纸或耗材配合使用，无需成本昂贵的专用研磨薄片。

额定转速1950 rpm。核心技术包括ExciCut快速切割功能（适用于硬质材料且无热损伤）、AxioCut超大工件切割功能、MultiCut自动连续平行切割、OptiFeed进给速度优化调节以及AxioWash自动清洁程序。

操作界面采用3向操纵杆与多功能旋钮，支持直观的参数设定与编程。

Tegramin 高精度研磨抛光系统，采用紧凑型设计，配备一体化试样移动头与自动工艺控制，可实现准确、可再现的制备结果。

创新性解决方案改进了制备流程，适用于处理各种不同类型的试样材料或大批量待处理样品。

LaboSystem 组装式研磨抛光系统，提供三种LaboPol抛光机、三种LaboForce移动盘与两种LaboDoser配料装置的七种组合方式，

可满足手动与半自动研磨抛光需求。设备采用模块化设计，具备灵活性与扩展能力，可在实验室或生产线旁实现快速可靠的金相试样制备。

Lavamin 独立清洁设备，适用于直径达160毫米的Struers试样夹具座与试样盘的自动清洁与干燥。

该设备可在五分钟内完成安装，消除试样制备步骤之间繁琐耗时的手动清洁过程。